在进行材料的实验，这次他想要自己试一试。
江辰拿起卢师哥选择的几项材料，锑化铟，碲镉汞等等。
这几个材料确实目前在光电材料领域的主要材料，而且实验室里使用的也是常规的薄膜外延技术。
利用液相外延的方式制备大尺寸晶片。
这种液相外延的技术是老技术，早在上个世纪60年代就开始使用，设备简单，生长速率较高，掺杂剂选择范围广。
但是在生产很薄的外延层时，在生产方向上控制掺杂剂与多元化合物的均匀性时效果很差。
江辰想起来，碲镉汞材料的缺点当中就由一条大面积均匀性差。
难道是因为薄膜技术工艺的选择问题，导致最后的光学薄膜缺陷影响了光反射率吗？
为什么不采用磁控溅射法技术了？这项技术的控制能力明显要强于液相外延啊，而且也是主攻电子，光学，磁学领域的方法。
江辰扫视了一圈实验室器材，这里也有设备啊。
想干就干，江辰立刻开始按照自己的思路制造光学薄膜。
先在一个真空室内装入惰性气体，在金属靶与沉积薄膜之间施加直流电压。
这样一来就将气体分解成了离子与电子。
随后开启磁控溅射机台的永磁体，制造一个磁场。
利用磁场使得被气体分解的电子做螺旋运动，延长它们的停留时间，从而生产更离子，在用过离子溅射的方式进入沉积薄膜中。
完成了薄膜的制作，江辰在利用化学气体淀积的方式将制备好的光学薄膜覆盖到锑化铟材料表面。
看着这最终的一小块材料，江辰立刻拿起傅里叶红外光谱分析仪开始测试材料的各项性能数据。
拿到数据以后，他趴在桌子上立刻开始计算，果然在不影响透光率和热辐射吸收率的情况下，让光折射率达标了。